一、產(chǎn)品關鍵詞

低酒精魔芋粉研磨分散機，魔芋粉濕法研磨機，低酒精濃度濕法研磨機，立式濕法研磨分散機，德國不銹鋼研磨機，低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機

二、低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機

低酒精濃度濕法加工魔芋精粉的方法B、將魔芋切分護色；-10℃～5%～5%～D、干燥處理，該方法是在溫度為0℃的環(huán)境下對魔芋進行粉碎、研磨與分離處理，這樣只需使用濃度為15%的酒精即可防止精粉粒子發(fā)生過度溶脹或形成溶膠，其加工成本大大降低，適合在食品加工領域推廣應用。

所謂濕法加工魔芋精粉，是指在加工精粉的過程中采用保護性溶劑浸潰保護加工，使精粉不膨化、不褐變，經(jīng)粉碎、研磨、分離、干燥等工序制取濕法精粉全過程的方法。濕法加工采用的保護性溶液包括有機溶劑保護液和無機溶劑保護液，有機溶劑保護液主要指以食用酒精作為控溶劑為主配兌的保護液，無機溶劑保護液主要指以四硼酸鈉)為主配兌的保護液，前者保護液成本較高，但精粉質(zhì)量好，精粉產(chǎn)品用于醫(yī)藥、食品等各行業(yè)，后者保護液成本低，但加工的精粉不能食用，僅能作為工業(yè)用精粉。

三、研磨分散機的工藝

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

四、研磨分散機的結(jié)構(gòu)

GMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

五、研磨分散機的特點

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

六、從設備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。

七、GMD2000系列研磨分散機設備選型表

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。